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口腔正畸支抗的量级

作者:许天民 教授 来源: 口腔视界 日期:2017-07-28
导读

         正畸医师习以为常的治疗前推断强弱支抗的方法与其治疗后用面型改善来判断是否达到了强支抗的控制效果不是同一个概念,应该说治疗后面型改善的因素要远远多于正畸医师所关注的支抗控制效果,前者涵盖的范畴远大于后者。

关键字:  口腔正畸 

        口腔正畸支抗的量级

        国内外教科书均按照支抗磨牙前移量占拔牙间隙的比例将支抗分为3种:最大支抗、中度支抗和弱支抗,其中最大支抗被定义为支抗磨牙前移量占拔牙间隙的1/3[2]或1/4[3]以内。虽然定义很明确,但使用起来并不容易。正畸医师区分强弱支抗的需求通常在正畸治疗之前,属于治疗计划的一部分,但该定义似乎更适合于治疗完成后的疗效评价。于是正畸医师将此定义理解为如果某病例的治疗计划不希望磨牙前移量超过拔牙间隙的1/3或1/4(平均约2.2mm),该病例即为需要最大支抗控制的病例,至于治疗后是不是达到了正畸医师的期望值,却鲜有正畸医师去测量。原因很简单,因为治疗后正畸医师有了更简单、更直观的评价方法——患者唇部的侧貌突度变化。只要嘴唇的侧貌突度减小了,就可以认为该患者的治疗达到了最大支抗的控制要求。但如果统一治疗前后的标准,正畸医师期望获得最大支抗控制的病例在治疗后磨牙前移量有多少可以控制在2.2mm之内?

        笔者[4]曾对63例需要最大支抗的错合病例做过一个前瞻性随机临床实验,63例患者均使用口外弓支抗,均以MBT直丝弓矫治器进行治疗;评价方法为在矫治前后的头颅侧位片上,以上腭骨结构进行最佳匹配方法重叠,由2人定点取均值进行测量,所有测量在美国太平洋大学牙科学院正畸科的计算机头影测量系统上完成。结果发现:上颌磨牙的平均前移量为(4.3±2.1) mm,超过了拔除1个前磨牙平均宽度的1/2!这显然没有达到正畸医师所期望的最大支抗的控制效果。那么能否据此推测这些患者的面型会令正畸医师大失所望呢?事实证明答案是否定的。以下图的样本病例为例,该患者的磨牙前移量几乎达到了1颗磨牙的宽度,但由于患者的生长明显,其软组织面型仍然有显著改观。由此可见,正畸医师习以为常的治疗前推断强弱支抗的方法与其治疗后用面型改善来判断是否达到了强支抗的控制效果不是同一个概念,应该说治疗后面型改善的因素要远远多于正畸医师所关注的支抗控制效果,前者涵盖的范畴远大于后者。

        因此,临床医师用面型改善效果来评价支抗控制的效果是不可取的,培养成这种习惯性思维的危害是:只要患者的面型改善了,正畸医师就会认为自己的支抗控制方法成功了,而其真正的原因却可能是如下图中显示的,患者颌骨的生长掩盖了实际发生的支抗丢失量。如果正畸医师不了解这一点,就会被自己看见的表象所蒙蔽,总认为真的将磨牙前移量控制在了1/3甚至1/4拔牙间隙之内。如果真的想知道磨牙支抗到底丧失了多少,就应该测量磨牙实际的移动,而不是通过评价患者治疗前后的面型改变来间接推测支抗控制效果。为什么正畸医生会忽略这么明显的概念置换?除了治疗前后评价支抗的目的发生了改变之外,还有两个重要原因:一是大多数临床医师只关注如何用头影测量做诊断设计,相当多正畸医师甚至不去拍摄治疗后的头颅侧位片;二是即使拍摄了治疗后的头颅侧位片,相当多的正畸医师也不知道该如何测量支抗磨牙究竟发生了什么样的位移。

        下图显示1例生长期患者治疗前后的磨牙移动情况

        A:患者治疗前头颅侧位片描记图;

 

        B:患者治疗后头颅侧位片,显示上唇突度减小、II类面型减轻;

        C:患者生长期治疗前后在前颅底平面重叠,显示有明显的上下颌骨生长;

        D:用上颌结构最佳匹配法进行重叠,显示该患者的磨牙支抗有明显丧失。

        参考文献:

        2.Thomas M. Graber , Orthodontics-current principles and technique, 1995; 605.

        3.Gurkeerat Singh, Textbook of Orthodontics, 2004; 264

        4. TM Xu, XY Zhang, S Baumrind. Randomized clinical trial comparing control of maxillary anchorage with 2 retraction techniques. AJODO, 2010; 138

        摘自:许天民教授文章

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